Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Material | SiO2 |
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Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
material | SIO2>99.99% |
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densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Nome do produto | Urna de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |