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High Purity 99.99% Fused Silica Plate with 1732C Melting Point and 1100C Working Temperature for Optical Quartz Window
Placas de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1150°C. Tamanhos personalizados (1-800 mm de diâmetro, 0,2-100 mm de espessura) com opções de perfuração/corte. Padrões JGS, resistentes à corrosão e duráveis em altas temperaturas para aplicações de semicondutores, laser e ópticas.
CNC Process Clear Quartz Glass Plate High Resistant Square Quartz Plate
Placa de vidro de quartzo transparente de processo CNC com resistência a altas temperaturas (temperatura de trabalho de 1100 ℃), pureza de 99,99% SiO₂, dureza Morse 6,5 e 92% + transmitância de luz. Formas personalizadas, espessura (0,5-100 mm) e especificações disponíveis com opções de materiais JGS1/JGS2/JGS3.
Wholesale Customized Impurity Free Round Shape Quartz Polishing Sheet Quartz Window
Folha de polimento de quartzo de formato redondo personalizada e livre de impurezas com 99,99% de teor de SiO₂, densidade 2,2g/cm³, dureza 6,6, temperatura de trabalho 1100°C e ponto de fusão 1732°C. Suporta processamento de perfuração/corte e amostras grátis para aplicações de semicondutores.
High Transmittance Fused Silica High Pressure Resistant Polishing Quartz Glass Tube for Semiconductor
Tubo de vidro de quartzo de sílica fundida de alta transmitância com conteúdo de 99,99% de SiO₂, temperatura de trabalho de até 1100 ℃, faixa de diâmetro externo de 10-10000 mm. Ideal para equipamentos semicondutores, fornos de alta temperatura e reatores de laboratório. Corte/perfuração personalizados disponíveis com amostras grátis.
Placa de vidro de quartzo de sílica fundida óptica perfurada por CNC de alta precisão
Placa de vidro de quartzo de sílica fundida óptica perfurada CNC de alta precisão com conteúdo de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃ e temperatura de trabalho de 1100 ℃. Fabricação personalizada com serviços de puncionamento/corte e amostras grátis disponíveis para aplicações de semicondutores.
Alta pureza personalizada 99,99% Placa de vidro de quartzo Resistente a altas temperaturas com alta transmissão de luz para óptica de semicondutores
Placa de quartzo transparente personalizada de fábrica de alta pureza 99,99% com transmitância de luz> 92%, padrões JGS1 / JGS2, temperatura de trabalho de até 1150 ℃, disponível em espessura de 0,5-100 mm. Opções de fabricação personalizada para aplicações ópticas e de semicondutores com forte resistência à corrosão e isolamento elétrico.
Placa de Vidro de Quartzo de Sílica Fundida de Alta Pureza e Alta Transmitância com Espessura Personalizada para Uso em Laboratório
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Tubo de sílica fundida de grande diâmetro tubo de vidro de quartzo resistente a altas temperaturas para forno industrial
Tubo de quartzo de sílica fundida de grande diâmetro com pureza de 99,99% SiO₂, temperatura de trabalho de até 1100 ℃. Tamanhos personalizados de 10 a 10.000 mm de diâmetro externo para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
