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Customized Polishing Laser Drilling Quartz Glass Sheet High Purity Quartz Plate for Semiconductor
Folha de vidro de quartzo de perfuração a laser de polimento personalizado com pureza de 99,99% SiO₂ para aplicações de semicondutores. Apresenta resistência a altas temperaturas (temperatura de trabalho de 1100 ℃), densidade de 2,2g/cm³ e suporta corte/perfuração personalizado com amostras grátis disponíveis.
High Purity 99.99% Fused Silica Plate with 1732C Melting Point and 1100C Working Temperature for Optical Quartz Window
Placas de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1150°C. Tamanhos personalizados (1-800 mm de diâmetro, 0,2-100 mm de espessura) com opções de perfuração/corte. Padrões JGS, resistentes à corrosão e duráveis em altas temperaturas para aplicações de semicondutores, laser e ópticas.
Factory Supply High Purity Heat Resistant Shape Quartz Glass Plate
Fornecimento de fábrica de placas de vidro de quartzo resistentes ao calor de alta pureza (SiO₂> 99,99%) com ponto de amolecimento de 1683 ° C, temperatura de trabalho 1100-1200 ° C, dureza Morse 6,5 e 92% + transmitância de luz. Formas personalizadas, espessura de 0,3-100 mm, superfícies polidas e baixo MOQ disponível.
Precision Machined Drilled Quartz Plate JGS1 JGS2 JGS3 Perforated Quartz Plate for Semiconductor
Placas de quartzo perfuradas usinadas com precisão nas classes JGS1/JGS2/JGS3 para aplicações de semicondutores. Apresenta pureza de 99,99% de SiO₂, temperatura de trabalho de 1100°C e serviços personalizados de perfuração/corte. Disponível em sílica fundida transparente com amostras grátis e baixo MOQ.
Professional Custom Corrosion Resistant Transparent Quartz Bottle for Lab
Garrafa de quartzo personalizada profissional com pureza de 99,99% de SiO₂, suporta temperatura de trabalho de 1100 ℃ e ponto de fusão de 1732 ℃. Ideal para pesquisas em laboratório, processos de semicondutores e aplicações de ensino universitário.
Capacidade OEM/ODM Tubo de Quartzo Transparente de Alta Pureza Com Flange Para Forno a Vácuo de Laboratório ISO 9001
OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product ...
Resistente ao calor Alta pureza SiO2>99,99% comprimento OD ID personalizado tubo de vidro de quartzo para instrumentos ópticos
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Resistente a altas temperaturas 1100° Resistente à corrosão 99,99% SiO2 Tubo de vidro de quartzo para aplicações em fornos
Tubos de vidro de quartzo resistentes a altas temperaturas de 1100°C com pureza de 99,99% de SiO₂. Resistente à corrosão, densidade 2,2g/cm³, ideal para fornos, equipamentos semicondutores e aplicações de laboratório. Opções personalizadas disponíveis com certificações ISO9001, CE, RoHS.
