Tigela cantante de cristal de quartzo puro 99,99% feita à mão, tamanho e design personalizáveis. Ideal para ioga, banhos sonoros, equilíbrio de chakras com frequências de 432Hz/440Hz. Suporta logotipos e embalagens personalizadas.
Placas de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1150°C. Tamanhos personalizados (1-800 mm de diâmetro, 0,2-100 mm de espessura) com opções de perfuração/corte. Padrões JGS, resistentes à corrosão e duráveis em altas temperaturas para aplicações de semicondutores, laser e ópticas.
Folha de vidro de quartzo de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, transparente UV, espessura 0,5-100 mm, temperatura de trabalho 1150 ℃. Tamanhos personalizados, padrões JGS, resistentes à corrosão, resistentes a altas temperaturas, forte isolamento elétrico.
Tubo de vidro de quartzo de sílica fundida transparente de alta pureza 99,99% para fornos semicondutores. Apresenta ponto de amolecimento de 1730 ℃, excelente resistência a ácidos e tamanhos personalizáveis. CE, RoHS, certificado SGS.
Tubos de quartzo personalizados com 99,99% de pureza de SiO2, suportam choque térmico de 1200°C. Apresenta ponto de amolecimento de 1730°C, excelente resistência a ácidos e certificações CE/RoHS/SGS. Disponível em tamanhos personalizados para aplicações químicas.
Tubo redondo de quartzo transparente com 99,99% de pureza de SiO₂, resistente a altas temperaturas de até 1100 ℃, ponto de fusão de 1732 ℃. Tamanhos personalizados de 10-10000 mm de diâmetro externo para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Placa de vidro de quartzo transparente resistente a altas temperaturas com teor de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃, temperatura de trabalho de 1100 ℃. Processamento personalizado de perfuração/corte, amostras grátis disponíveis. Ideal para aplicações de semicondutores.
Deixe mensagem.
Ligaremos de volta em breve!
Sua mensagem deve ter entre 20 e 3.000 caracteres!
Por favor verifique seu e-mail!
Submeter
Mais informações facilitam uma melhor comunicação.
Senhor
Senhor
Sra.
OK
Enviado com sucesso!
Ligaremos de volta em breve!
OK
Deixe mensagem.
Ligaremos de volta em breve!
Sua mensagem deve ter entre 20 e 3.000 caracteres!
Por favor verifique seu e-mail!
Submeter
Por favor, deixe seu e-mail correto e requisitos detalhados (20 a 3.000 caracteres).