Placa de vidro de quartzo de sílica fundida óptica perfurada CNC de alta precisão com conteúdo de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃ e temperatura de trabalho de 1100 ℃. Fabricação personalizada com serviços de puncionamento/corte e amostras grátis disponíveis para aplicações de semicondutores.
Tubo de vidro de quartzo de alta temperatura com pureza de 99,99% SiO₂, temperatura de trabalho de até 1100 ℃, faixa de diâmetro externo de 10-10000 mm. Ideal para aplicações de semicondutores, laboratórios e fornos industriais. Corte/perfuração personalizados disponíveis com amostras grátis.
Placa de quartzo resistente a altas temperaturas com temperatura de trabalho de 1150 ℃, >92% de transmitância de luz e 99,99% de pureza de SiO2. Disponível em espessuras de 0,5 a 100 mm com opções de fabricação personalizadas para aplicações de semicondutores, laboratórios e fornos.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Placa de vidro de quartzo transparente resistente a altas temperaturas com teor de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃, temperatura de trabalho de 1100 ℃. Processamento personalizado de perfuração/corte, amostras grátis disponíveis. Ideal para aplicações de semicondutores.
High Purity 99.99% High Temperature Resistant Corrosion Resistant Quartz Glass Plate High Purity 99.99% High Temperature Resistant Corrosion Resistant Quartz Glass Round Plate. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. We ...
Placa de quartzo de sílica fundida de grau óptico com transmitância de 92%, resistência ao calor de 1150 ℃, alta pureza (SiO₂> 99,99%), densidade 2,2g/cm³ e dureza Morse 6,5. Formatos e especificações personalizados disponíveis para aplicações UV, máquinas industriais, instrumentos ópticos e ambientes de alta temperatura.
Copo de quartzo transparente com resistência à corrosão de 1200 ℃, resistente a altas temperaturas para equipamentos de laboratório. Apresenta conteúdo de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732°C, temperatura de trabalho de 1100°C e dureza de 6,6. Ideal para pesquisas laboratoriais, processos de semicondutores e aplicações de ensino universitário.
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