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High Purity Transparent Quartz Beaker Heat Resistant Laboratory Fused Silica Beaker
Copo de quartzo transparente de 99,99% SiO₂ de alta pureza com temperatura de trabalho de 1100 ℃, resistência à corrosão e dureza 6,6. Ideal para processos de laboratório, semicondutores e fotovoltaicos. Quantidade mínima para pedido, amostras disponíveis, entrega rápida.
Acid Resistant Professional Production Quartz Glass Beaker for Lab Metal Smelting
Copo de quartzo SiO₂ 99,99% de alta pureza com ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1100°C. Apresenta excepcional resistência à corrosão, dureza 6,6 e transparência para fundição de metal em laboratório. Quantidade mínima para pedido, amostras disponíveis, entrega em 15 dias.
High Quality Optical Fused Silica Punching Quartz Glass Plate for Laboratory Optical Equipment
Placas de quartzo de sílica fundida de alta pureza com 99,99% com ponto de fusão de 1732 ℃ e temperatura de trabalho de 1100 ℃. Ideal para equipamentos semicondutores e ópticos. Apresenta perfuração, corte e amostras grátis personalizadas. Durável, eficiente e adaptado às especificações exatas.
Tubo de Vidro de Quartzo Leitoso Resistente ao Calor OD e Comprimento Personalizados Tubo Polido Opaco
Tubo de vidro de quartzo leitoso de 99,99% SiO₂ de alta pureza com temperatura de trabalho de 1100°C e ponto de fusão de 1732°C. OD personalizado 10-10000mm, acabamento polido, resistente à corrosão. Ideal para reatores semicondutores, fotovoltaicos e de laboratório. Amostras grátis suportadas.
Janela de Vidro de Quartzo de Sílica Fundida Resistente à Corrosão JGS1 JGS2
Janelas de sílica fundida com 99,99% SiO₂ de alta pureza com ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1100°C. Resistente à corrosão, alta transmitância para aplicações ópticas e de semicondutores. Corte personalizado, perfuração e amostras grátis disponíveis.
Frasco de quartzo transparente de alta pureza, resistente ao calor, frasco de sílica fundida para experimento de aquecimento químico de laboratório
Frasco de quartzo SiO₂ 99,99% de alta pureza com temperatura de trabalho de 1100 ℃ e dureza de 6,6 para aquecimento de laboratório. A sílica fundida durável e resistente ao calor garante experimentos químicos eficientes. Preço direto da fábrica, baixo MOQ e pedidos de amostra disponíveis.
Tubo de Sílica Fundida de Alta Pureza 99,99% SiO₂, Tubo de Vidro de Quartzo Transparente para Forno Tubular
Tubos de vidro de quartzo transparente 99,99% SiO₂ de alta pureza com temperatura de trabalho de 1100 ℃ e ponto de fusão de 1732 ℃. Ideal para fornos semicondutores e reatores de laboratório. Apresenta perfuração/corte personalizado, amostras grátis e baixo MOQ para compradores B2B.
Folha de vidro de quartzo transparente UV profundo para reator de fotocatálise
SiO2 de alta pureza> 99,99% de folha de vidro de quartzo com 93% de transmitância de luz, dureza Mohs 6,5 e temperatura de trabalho de 1200 ° C. Ideal para reatores de fotocatálise e instrumentos ópticos. Tamanhos personalizados, polimento e amostras disponíveis com baixo MOQ.
