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Qualidade Customized Polishing Laser Drilling Quartz Glass Sheet High Purity Quartz Plate for Semiconductor Fábrica VIDEO

Customized Polishing Laser Drilling Quartz Glass Sheet High Purity Quartz Plate for Semiconductor

Folha de vidro de quartzo de perfuração a laser de polimento personalizado com pureza de 99,99% SiO₂ para aplicações de semicondutores. Apresenta resistência a altas temperaturas (temperatura de trabalho de 1100 ℃), densidade de 2,2g/cm³ e suporta corte/perfuração personalizado com amostras grátis disponíveis.
Qualidade UV Transparent Quartz Glass Plate Fused Silica Sheet with 99.99% SiO2 and Custom Size Fábrica VIDEO

UV Transparent Quartz Glass Plate Fused Silica Sheet with 99.99% SiO2 and Custom Size

Folha de vidro de quartzo de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, transparente UV, espessura 0,5-100 mm, temperatura de trabalho 1150 ℃. Tamanhos personalizados, padrões JGS, resistentes à corrosão, resistentes a altas temperaturas, forte isolamento elétrico.
Qualidade Custom High-Temperature Resistant Corrosion-Resistant Translucent Quartz Glass Tube For Laboratory Fábrica VIDEO

Custom High-Temperature Resistant Corrosion-Resistant Translucent Quartz Glass Tube For Laboratory

Tubo espiral de vidro de quartzo personalizado com pureza SIO2> 99,99%, temperatura de trabalho de até 1100 ℃, transmitância de luz> 92% e livre de ozônio para uso em laboratório. Apresenta excelente estabilidade ao choque térmico, resistência a ácidos/álcalis e sem bolhas de ar.
Qualidade Capacidade OEM/ODM Tubo de Quartzo Transparente de Alta Pureza Com Flange Para Forno a Vácuo de Laboratório ISO 9001 Fábrica VIDEO

Capacidade OEM/ODM Tubo de Quartzo Transparente de Alta Pureza Com Flange Para Forno a Vácuo de Laboratório ISO 9001

OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product ...
Qualidade Alta pureza personalizada 99,99% Placa de vidro de quartzo Resistente a altas temperaturas com alta transmissão de luz para óptica de semicondutores Fábrica VIDEO

Alta pureza personalizada 99,99% Placa de vidro de quartzo Resistente a altas temperaturas com alta transmissão de luz para óptica de semicondutores

Placa de quartzo transparente personalizada de fábrica de alta pureza 99,99% com transmitância de luz> 92%, padrões JGS1 / JGS2, temperatura de trabalho de até 1150 ℃, disponível em espessura de 0,5-100 mm. Opções de fabricação personalizada para aplicações ópticas e de semicondutores com forte resistência à corrosão e isolamento elétrico.
Qualidade Placa de vidro de quartzo de sílica fundida resistente a altas temperaturas e de alta transmissão luminosa Fábrica VIDEO

Placa de vidro de quartzo de sílica fundida resistente a altas temperaturas e de alta transmissão luminosa

Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Qualidade Folha de Vidro de Quartzo Transparente Retangular Resistente ao Calor de Alta Qualidade com Furos para Semicondutor Fábrica VIDEO

Folha de Vidro de Quartzo Transparente Retangular Resistente ao Calor de Alta Qualidade com Furos para Semicondutor

Placa de vidro de quartzo transparente resistente a altas temperaturas com teor de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃, temperatura de trabalho de 1100 ℃. Processamento personalizado de perfuração/corte, amostras grátis disponíveis. Ideal para aplicações de semicondutores.
Qualidade Garrafa de Vidro de Quartzo de Sílica Fundida Polida de Alta Transparência para Experimento de Laboratório de Química Fábrica VIDEO

Garrafa de Vidro de Quartzo de Sílica Fundida Polida de Alta Transparência para Experimento de Laboratório de Química

Garrafa de vidro de quartzo de sílica fundida de alto polimento transparente para experimento de laboratório de química. Apresenta conteúdo de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732°C, temperatura de trabalho de 1100°C e dureza de 6,6. Ideal para pesquisas laboratoriais, processos de semicondutores e aplicações de ensino universitário.