Folha de vidro de quartzo de perfuração a laser de polimento personalizado com pureza de 99,99% SiO₂ para aplicações de semicondutores. Apresenta resistência a altas temperaturas (temperatura de trabalho de 1100 ℃), densidade de 2,2g/cm³ e suporta corte/perfuração personalizado com amostras grátis disponíveis.
Folha de vidro de quartzo de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, transparente UV, espessura 0,5-100 mm, temperatura de trabalho 1150 ℃. Tamanhos personalizados, padrões JGS, resistentes à corrosão, resistentes a altas temperaturas, forte isolamento elétrico.
Tubo espiral de vidro de quartzo personalizado com pureza SIO2> 99,99%, temperatura de trabalho de até 1100 ℃, transmitância de luz> 92% e livre de ozônio para uso em laboratório. Apresenta excelente estabilidade ao choque térmico, resistência a ácidos/álcalis e sem bolhas de ar.
OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product ...
Placa de quartzo transparente personalizada de fábrica de alta pureza 99,99% com transmitância de luz> 92%, padrões JGS1 / JGS2, temperatura de trabalho de até 1150 ℃, disponível em espessura de 0,5-100 mm. Opções de fabricação personalizada para aplicações ópticas e de semicondutores com forte resistência à corrosão e isolamento elétrico.
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Placa de vidro de quartzo transparente resistente a altas temperaturas com teor de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃, temperatura de trabalho de 1100 ℃. Processamento personalizado de perfuração/corte, amostras grátis disponíveis. Ideal para aplicações de semicondutores.
Garrafa de vidro de quartzo de sílica fundida de alto polimento transparente para experimento de laboratório de química. Apresenta conteúdo de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732°C, temperatura de trabalho de 1100°C e dureza de 6,6. Ideal para pesquisas laboratoriais, processos de semicondutores e aplicações de ensino universitário.
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