Placas de quartzo perfuradas usinadas com precisão nas classes JGS1/JGS2/JGS3 para aplicações de semicondutores. Apresenta pureza de 99,99% de SiO₂, temperatura de trabalho de 1100°C e serviços personalizados de perfuração/corte. Disponível em sílica fundida transparente com amostras grátis e baixo MOQ.
Tubo de vidro de quartzo de alta temperatura com pureza de 99,99% SiO₂, temperatura de trabalho de até 1100 ℃, faixa de diâmetro externo de 10-10000 mm. Ideal para aplicações de semicondutores, laboratórios e fornos industriais. Corte/perfuração personalizados disponíveis com amostras grátis.
Tubos de vidro de quartzo de alta pureza 99,99% com diâmetros personalizados de 1-1000 mm. Apresenta ponto de fusão de 1732°C, temperatura de trabalho de 1100°C e serviços de corte. Ideal para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
Donghai Source Factory Quartz Glass Tube OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product ...
Tubo de vidro de quartzo 99,99% SiO₂ resistente a altas temperaturas personalizado para fornos, equipamentos semicondutores e reatores de laboratório. Apresenta temperatura de trabalho de 1100 ℃, resistência à corrosão e processamento personalizado. ISO9001, CE, RoHS certificado com amostras grátis disponíveis.
Placa de quartzo transparente personalizada de fábrica de alta pureza 99,99% com transmitância de luz> 92%, padrões JGS1 / JGS2, temperatura de trabalho de até 1150 ℃, disponível em espessura de 0,5-100 mm. Opções de fabricação personalizada para aplicações ópticas e de semicondutores com forte resistência à corrosão e isolamento elétrico.
Garrafa de vidro de quartzo de sílica fundida de alto polimento transparente para experimento de laboratório de química. Apresenta conteúdo de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732°C, temperatura de trabalho de 1100°C e dureza de 6,6. Ideal para pesquisas laboratoriais, processos de semicondutores e aplicações de ensino universitário.