| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratório, biologia, médica |
| Cor | Transparente |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratório, biologia, médica |
| Cor | Transparente |
| Nome do produto | placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome do produto | Cadinho de vidro de quartzo |
|---|---|
| SIO2 | 99,99% |
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratório, biologia, médica |
| Tipo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Dobra, solda, perfurando, corte |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Tipo | Tubo de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | circular |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Tubo de quartzo claro |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 1-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratório, biologia, médica |
| cor | transparente |
| Tipo | portador de wafer de quartzo |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |