| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Tubo de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Semicircular |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1200℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Nome | Flange do vidro de silicone fundido |
|---|---|
| Tamanho | Personalizado |
| Aplicação | Instrumento ótico |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Característica | Resistência de corrosão |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Pureza | 99,99% |
| Tratamento de superfície | Lustrado |
| Ponto do derretimento | 1730℃ |