| Material | SiO2 |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Transmitância UV | 80% |
| nome | Disco do vidro de quartzo |
|---|---|
| Transmitância claro | >92% |
| densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1850℃ |
| Forma | Quadrado/redondo/alguma forma |
| Nome do produto | Placa de quartzo fundido |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | Vidro de quartzo puro |
| Capacidade | 100-850ml |
| Uso | casa/hotéis/restaurante |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | Vidro de quartzo puro |
| Capacidade | 100-850ml |
| Uso | casa/hotéis/restaurante |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | Vidro de quartzo puro |
| Capacidade | 100-850ml |
| Uso | casa/hotéis/restaurante |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicativo | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicativo | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |