Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Nome do produto | placa de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Nome do produto | Fazer à máquina do vidro da precisão |
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Material | Sio2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |