Tipo | Placa clara de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Perfuração, cortando |
Tipo | Placa de quartzo congelado |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Passo |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
SiO2 | 99,99% |
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Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratório, biologia, médica |
Cor | Transparente |