| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Nome de quartzo | placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Tipo | Placa de Quartzo Transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de Processamento | Perfuração, cortando |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1850℃ |
| forma | Quadrado/redondo/alguma forma |
| Espessura | 1mm-50mm |
| Nome do produto | Vidro de vista |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Nome | Disco do vidro de quartzo |
|---|---|
| Transmitância claro | >92% |
| densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nome de quartzo | placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Tipo | Placa de quartzo congelado |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |