Estudo de caso: Tubos de forno de sílica fundida Amy
Publicado em: June 24, 2026
1. Histórico do cliente
Um fabricante de semicondutores de potência de 8 polegadas utiliza fornos de difusão verticais a 1050–1180°C para oxidação e dopagem. Requisitos rigorosos quanto à pureza do material, transmitância infravermelha e resistência à desvitrificação.
2. Problemas originais com tubos de sílica comuns
Os antigos tubos polidos a chama JGS1 causaram vários defeitos de produção:
- O alto teor de OH leva a uma fraca penetração infravermelha e a um campo de temperatura irregular, reduzindo o rendimento do wafer.
- Altas impurezas metálicas provocam rápida desvitrificação e rachaduras frequentes; os tubos precisam ser substituídos a cada 45 dias.
- Porcas foscas polidas à chama resultam em má vedação a vácuo e concentração instável de gás de processo.
3. Solução Otimizada: Tubos de Sílica FS03
- Material: sílica fundida a vácuo FS03, SiO₂ ≥99,995%, OH⁻ ＜10 ppm, impurezas ultrabaixas.
- Superfície: Polimento espelhado totalmente transparente para tubos, flanges e porcas de quartzo (sem polimento por chama).
- Estrutura: Parede espessada, soldagem com alívio de tensão para alta resistência ao choque térmico.
4. Resultados de teste e produção
- A diferença de temperatura dentro do forno foi reduzida de ±12°C para ±3°C.
- Rendimento do wafer aumentou 6,8%; vida útil estendida de 45 dias para 180 dias.
- As falhas de vazamento de vácuo caíram 95%; menos paradas de produção para substituição de tubos.
5. Conclusão
Os tubos de forno transparentes polidos FS03 resolvem riscos de uniformidade de temperatura e contaminação, reduzem custos de manutenção e aumentam a produção em massa estável para processos térmicos de semicondutores.
