Tubos em U de quartzo de sílica fundida de alta pureza: desempenho térmico, químico e óptico para laboratório, semicondutor -sara

1. Parâmetros principais de desempenho de tubos em U de quartzo

1.1 Estabilidade Térmica Ultra Alta (Vantagem Principal)

• Temperatura de trabalho contínua a longo prazo: 1100℃–1200℃; resistência instantânea à temperatura de curto prazo até 1350 ℃
• Coeficiente de expansão térmica ultrabaixo: 5,5×10⁻⁷/℃, apenas 1/20 do vidro comum
• Excelente resistência ao choque térmico: Sem rachaduras ou deformações sob ciclos rápidos de aquecimento e resfriamento (da temperatura ambiente até aprovação no teste de têmpera de 1000 ℃)
• Condução de calor uniforme: O design simétrico de braço duplo em U realiza um campo de temperatura equilibrado, adequado para circulação de aquecimento, tubulação de forno de reação catalítica

1.2 Inércia Química Superior e Resistência à Corrosão

• Resistente a todos os ácidos fortes (ácido sulfúrico, ácido nítrico, ácido clorídrico, ácido fosfórico) e solventes orgânicos em alta temperatura
• 150 vezes melhor resistência a ácidos que o aço inoxidável, 30 vezes maior estabilidade à corrosão que o vidro borossilicato
• Sem precipitação de íons, contaminação zero para gás de alta pureza, wafer e reagente químico
• Somente ácido fluorídrico (HF) e álcali forte concentrado a quente corroerão levemente a superfície

1.3 Excelente desempenho de transmissão óptica

• Tubo em U de quartzo transparente: transmitância de luz visível> 93%, transmitância de banda UV 80% –90%, amplamente utilizado para fotocatálise UV, observação espectral, monitoramento visual de refluxo
• Tubo em U de quartzo branco leitoso opaco: radiação infravermelha uniforme, supressão de luz difusa, aplicada ao crescimento de cristal, forno de aquecimento infravermelho
• Parede interna e externa polida por chama, sem bolhas, arranhões ou neblina, transmissão de luz estável sem atenuação após operação em alta temperatura a longo prazo

1.4 Desempenho de processamento mecânico e personalizado

• O recozimento pós-dobra a quente elimina o estresse interno, a resistência à flexão aumentou em 30%, antivibração, resistente à flutuação de pressão
• Suporte totalmente personalizado: Diâmetro externo personalizado, espessura da parede, raio do arco U, comprimento do braço, portas de ramificação lateral, juntas flangeadas
• Múltiplas opções de vedação: Flange integral, boca fosca, conector rápido PTFE, extremidade de transição para soldagem de metal
• Tolerância dimensional estrita: erro de curvatura do arco ±0,2 mm, planicidade e rugosidade controladas para correspondência de equipamentos de alta precisão

2. Principais cenários de aplicação industrial

1. Pesquisa Científica Laboratorial
   
   
   Reator fotocatalítico UV, tubo de absorção de secagem de gás, circuito de observação de refluxo de destilação, pipeline de experimento de digestão de alta temperatura, equipamento de detecção de íons cloreto
2. Fabricação de semicondutores e fotovoltaicos
   
   
   Pipeline de circulação de gás de forno de difusão, canal de exaustão de embalagem de chips, tubo de fluxo médio de limpeza úmida, transportador de reação de alta temperatura de wafer de silício
3. Indústria Química Fina e Farmacêutica
   
   
   Equipamento de destilação de ácido corrosivo, tubo de circulação de resfriamento de chaleira de reação, circuito de visão de monitoramento de purificação de reagente de alta pureza
4. Equipamento Óptico e Térmico
   
   
   Tubo de forno de aquecimento infravermelho, canal de fluxo de esterilização UV, pipeline de controle de temperatura de produção de wafer de cristal fotônico