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Qualidade Uniform Wall Thickness High Transmittance High Precision Clear Quartz Pipe for Industrial Applications Fábrica VIDEO

Uniform Wall Thickness High Transmittance High Precision Clear Quartz Pipe for Industrial Applications

Tubo de quartzo transparente de alta pureza (SiO2>99,99%) com espessura de parede uniforme, alta transmitância (>92%) e fabricação de precisão. Apresenta resistência a altas temperaturas (funcionamento de 1100 ℃, curto prazo de 1450 ℃), excelente resistência à corrosão e tamanhos personalizáveis. CE, RoHS, SGS certificados para uso industrial.
Qualidade 99.99% Purity High Temperature Resistant Custom Size Quartz Tube Fused Silica Tube for Lab Furnace Fábrica VIDEO

99.99% Purity High Temperature Resistant Custom Size Quartz Tube Fused Silica Tube for Lab Furnace

Tubos de quartzo personalizados com 99,99% de pureza de SiO2, resistência a altas temperaturas de até 1450°C, excelente resistência à corrosão ácida e certificações CE/RoHS/SGS. Disponível em tamanhos personalizados com alta transmitância e durabilidade.
Qualidade Precision Machined Drilled Quartz Plate JGS1 JGS2 JGS3 Perforated Quartz Plate for Semiconductor Fábrica VIDEO

Precision Machined Drilled Quartz Plate JGS1 JGS2 JGS3 Perforated Quartz Plate for Semiconductor

Placas de quartzo perfuradas usinadas com precisão nas classes JGS1/JGS2/JGS3 para aplicações de semicondutores. Apresenta pureza de 99,99% de SiO₂, temperatura de trabalho de 1100°C e serviços personalizados de perfuração/corte. Disponível em sílica fundida transparente com amostras grátis e baixo MOQ.
Qualidade Tubo de vidro de quartzo resistente ao calor com corte de diâmetro personalizado de 1-1000 mm de alta pureza 99,99% Fábrica VIDEO

Tubo de vidro de quartzo resistente ao calor com corte de diâmetro personalizado de 1-1000 mm de alta pureza 99,99%

Tubos de vidro de quartzo de alta pureza 99,99% com diâmetros personalizados de 1-1000 mm. Apresenta ponto de fusão de 1732°C, temperatura de trabalho de 1100°C e serviços de corte. Ideal para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
Qualidade High Temperature Resistant Fused Silica Quartz coated plate Fábrica VIDEO

High Temperature Resistant Fused Silica Quartz coated plate

High Temperature Resistant Fused Silica Quartz Coated Plate High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. Technical ...
Qualidade Placa de Vidro de Quartzo Transparente UV de Alta Pureza, Folha de Sílica Fundida de Tamanho Personalizado para Equipamentos a Laser Fábrica VIDEO

Placa de Vidro de Quartzo Transparente UV de Alta Pureza, Folha de Sílica Fundida de Tamanho Personalizado para Equipamentos a Laser

Placas de vidro de quartzo transparente UV com pureza de SiO2> 99,99%, transmitância de luz> 92% e temperatura de trabalho de 1150 ℃. Disponível em espessura de 0,5-100 mm com padrões JGS1/JGS2/JGS3. Tamanhos e formatos personalizados fabricados de acordo com suas especificações para equipamentos a laser e aplicações industriais.
Qualidade Tubos de vidro de quartzo resistentes a altas temperaturas de 1200°C com SiO2 > 99,99% de pureza e opções de tamanho personalizadas Fábrica VIDEO

Tubos de vidro de quartzo resistentes a altas temperaturas de 1200°C com SiO2 > 99,99% de pureza e opções de tamanho personalizadas

High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Qualidade Folha de Vidro de Quartzo Transparente Retangular Resistente ao Calor de Alta Qualidade com Furos para Semicondutor Fábrica VIDEO

Folha de Vidro de Quartzo Transparente Retangular Resistente ao Calor de Alta Qualidade com Furos para Semicondutor

Placa de vidro de quartzo transparente resistente a altas temperaturas com teor de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃, temperatura de trabalho de 1100 ℃. Processamento personalizado de perfuração/corte, amostras grátis disponíveis. Ideal para aplicações de semicondutores.