Folha de vidro de quartzo de perfuração a laser de polimento personalizado com pureza de 99,99% SiO₂ para aplicações de semicondutores. Apresenta resistência a altas temperaturas (temperatura de trabalho de 1100 ℃), densidade de 2,2g/cm³ e suporta corte/perfuração personalizado com amostras grátis disponíveis.
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Tubo redondo de quartzo transparente com 99,99% de pureza de SiO₂, resistente a altas temperaturas de até 1100 ℃, ponto de fusão de 1732 ℃. Tamanhos personalizados de 10-10000 mm de diâmetro externo para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
Tubo de vidro de quartzo 99,99% SiO₂ resistente a altas temperaturas personalizado para fornos, equipamentos semicondutores e reatores de laboratório. Apresenta temperatura de trabalho de 1100 ℃, resistência à corrosão e processamento personalizado. ISO9001, CE, RoHS certificado com amostras grátis disponíveis.
Folha de polimento de quartzo de formato redondo personalizada e livre de impurezas com 99,99% de teor de SiO₂, densidade 2,2g/cm³, dureza 6,6, temperatura de trabalho 1100°C e ponto de fusão 1732°C. Suporta processamento de perfuração/corte e amostras grátis para aplicações de semicondutores.
Garrafa de quartzo personalizada profissional com pureza de 99,99% de SiO₂, suporta temperatura de trabalho de 1100 ℃ e ponto de fusão de 1732 ℃. Ideal para pesquisas em laboratório, processos de semicondutores e aplicações de ensino universitário.
OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product ...
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
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