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Qualidade Poluição por laser de perfuração personalizada Quartz de vidro de alta pureza Quartz para semicondutores Fábrica VIDEO

Poluição por laser de perfuração personalizada Quartz de vidro de alta pureza Quartz para semicondutores

Folha de vidro de quartzo de perfuração a laser de polimento personalizado com pureza de 99,99% SiO₂ para aplicações de semicondutores. Apresenta resistência a altas temperaturas (temperatura de trabalho de 1100 ℃), densidade de 2,2g/cm³ e suporta corte/perfuração personalizado com amostras grátis disponíveis.
Qualidade Wafer de vidro de quartzo de sílica fundido transparente resistente a altas temperaturas JGS1 JGS2 JGS3 para fabricação de semicondutores Fábrica VIDEO

Wafer de vidro de quartzo de sílica fundido transparente resistente a altas temperaturas JGS1 JGS2 JGS3 para fabricação de semicondutores

High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Qualidade Tubo de quartzo redondo e transparente resistente a altas temperaturas Tubo de quartzo padrão Fábrica VIDEO

Tubo de quartzo redondo e transparente resistente a altas temperaturas Tubo de quartzo padrão

Tubo redondo de quartzo transparente com 99,99% de pureza de SiO₂, resistente a altas temperaturas de até 1100 ℃, ponto de fusão de 1732 ℃. Tamanhos personalizados de 10-10000 mm de diâmetro externo para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
Qualidade Alta pureza 99,99% Tubo de vidro de quartzo Tubo de sílica fundido resistente ao calor Tubo redondo de quartzo para fornos de laboratório Fábrica VIDEO

Alta pureza 99,99% Tubo de vidro de quartzo Tubo de sílica fundido resistente ao calor Tubo redondo de quartzo para fornos de laboratório

Tubo de vidro de quartzo 99,99% SiO₂ resistente a altas temperaturas personalizado para fornos, equipamentos semicondutores e reatores de laboratório. Apresenta temperatura de trabalho de 1100 ℃, resistência à corrosão e processamento personalizado. ISO9001, CE, RoHS certificado com amostras grátis disponíveis.
Qualidade Folha de Polimento de Quartzo Redonda Personalizada a Granel Sem Impurezas Janela de Quartzo Fábrica VIDEO

Folha de Polimento de Quartzo Redonda Personalizada a Granel Sem Impurezas Janela de Quartzo

Folha de polimento de quartzo de formato redondo personalizada e livre de impurezas com 99,99% de teor de SiO₂, densidade 2,2g/cm³, dureza 6,6, temperatura de trabalho 1100°C e ponto de fusão 1732°C. Suporta processamento de perfuração/corte e amostras grátis para aplicações de semicondutores.
Qualidade Botella de quartzo transparente resistente à corrosão para laboratório Fábrica VIDEO

Botella de quartzo transparente resistente à corrosão para laboratório

Garrafa de quartzo personalizada profissional com pureza de 99,99% de SiO₂, suporta temperatura de trabalho de 1100 ℃ e ponto de fusão de 1732 ℃. Ideal para pesquisas em laboratório, processos de semicondutores e aplicações de ensino universitário.
Qualidade Capacidade OEM/ODM Tubo de Quartzo Transparente de Alta Pureza Com Flange Para Forno a Vácuo de Laboratório ISO 9001 Fábrica VIDEO

Capacidade OEM/ODM Tubo de Quartzo Transparente de Alta Pureza Com Flange Para Forno a Vácuo de Laboratório ISO 9001

OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product ...
Qualidade Resistente ao calor Alta pureza SiO2>99,99% comprimento OD ID personalizado tubo de vidro de quartzo para instrumentos ópticos Fábrica VIDEO

Resistente ao calor Alta pureza SiO2>99,99% comprimento OD ID personalizado tubo de vidro de quartzo para instrumentos ópticos

High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...