Reator de vidro de quartzo de parede dupla resistente ao calor com tamanho personalizado e SiO2 de alta pureza para a indústria de semicondutores
Detalhes do produto
| Material: | silicone fundido | Densidade: | 2.2g/cm3 |
|---|---|---|---|
| Dureza: | Morse 6.5 | Temperatura de trabalho: | 1100°C |
| Conteúdo SiO2: | ≥99,99% | Ponto de fusão: | 1732℃ |
| Destacar |
Reator de vidro de quartzo resistente ao calor,Reator de vidro encamisado de parede dupla,Reator semicondutor de SiO2 de alta pureza |
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Descrição do produto
| Parâmetro | Especificações |
|---|---|
| Nome do produto | Reator de vidro de quartzo |
| Teor de SiO2 | ≥ 99,99% |
| Tolerância | ±0,02 - ±0,05 mm |
| Tamanho | Personalizado |
| Ponto de fusão | 1732°C |
| Temperatura de funcionamento | 1100°C |
| Ponto de recozimento | 1180°C |
- Forma: redonda
- Aplicação: Combinações químicas de aquecimento
- Características: Finíssimo acabamento, elevada capacidade de aquecimento, não quebrável
- Cor: Transparente
- Material: Vidro de quartzo (SiO2 > 99,9%)
- Tipo de fornecimento: Fabricante, exportador
- Teor de SiO2 > 99,99%
- Temperatura de funcionamento: 1250°C.
- Excelente desempenho visual e químico
- Sem revestimento de superfície ou contaminantes
- Compatível com os cuidados de saúde e com a protecção do ambiente
- Dimensões sob medida disponíveis
- Forneça os seus requisitos ou aplicação
- Nós citamos de acordo com os seus requisitos ou as nossas sugestões
- O cliente confirma as amostras e deposita para encomenda formal
- Nós organizamos a produção.
Destaques do produto
Reatores de vidro de quartzo transparente revestidos de parede dupla, feitos de silício fundido (SiO2≥99,99%). Suporta temperatura de trabalho de 1100 ℃, ponto de amolecimento de 1730 ℃, dureza morse 6,5 e tolerância a ácidos de 30x da cerâmica. Tamanhos e designs personalizados disponíveis com certificações do fabricante.
O tanque entalhado microplaqueta da amostra da folha do vidro de quartzo do portador da folha de teste do tanque da amostra de XRD pode ser personalizado
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