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Poluição por laser de perfuração personalizada Quartz de vidro de alta pureza Quartz para semicondutores
Folha de vidro de quartzo de perfuração a laser de polimento personalizado com pureza de 99,99% SiO₂ para aplicações de semicondutores. Apresenta resistência a altas temperaturas (temperatura de trabalho de 1100 ℃), densidade de 2,2g/cm³ e suporta corte/perfuração personalizado com amostras grátis disponíveis.
Placa de Sílica Fundida de Alta Pureza 99,99% com Ponto de Fusão de 1732C e Temperatura de Trabalho de 1100C para Janela de Quartzo Óptico
Placas de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1150°C. Tamanhos personalizados (1-800 mm de diâmetro, 0,2-100 mm de espessura) com opções de perfuração/corte. Padrões JGS, resistentes à corrosão e duráveis em altas temperaturas para aplicações de semicondutores, laser e ópticas.
Placa de vidro de quartzo UV transparente fornecedor China disco de quartzo fundido polido
Placas de vidro de quartzo fundido personalizadas com 99,99% de pureza de SiO₂, 92% de transmitância de luz e temperatura de trabalho de 1100 ℃. Disponível em superfícies polidas, vários formatos e tamanhos personalizados com tolerância de ±0,02 mm. Ideal para aplicações industriais de semicondutores, ópticas e de alta temperatura.
Tubo de quartzo redondo e transparente resistente a altas temperaturas Tubo de quartzo padrão
Tubo redondo de quartzo transparente com 99,99% de pureza de SiO₂, resistente a altas temperaturas de até 1100 ℃, ponto de fusão de 1732 ℃. Tamanhos personalizados de 10-10000 mm de diâmetro externo para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
Tubos de vidro de quartzo de alta transmissão de sílica fundida resistente à alta pressão
Tubo de vidro de quartzo de sílica fundida de alta transmitância com conteúdo de 99,99% de SiO₂, temperatura de trabalho de até 1100 ℃, faixa de diâmetro externo de 10-10000 mm. Ideal para equipamentos semicondutores, fornos de alta temperatura e reatores de laboratório. Corte/perfuração personalizados disponíveis com amostras grátis.
Placa de vidro de quartzo de sílica fundida óptica perfurada por CNC de alta precisão
Placa de vidro de quartzo de sílica fundida óptica perfurada CNC de alta precisão com conteúdo de 99,99% de SiO₂, ponto de fusão de 1732 ℃ e temperatura de trabalho de 1100 ℃. Fabricação personalizada com serviços de puncionamento/corte e amostras grátis disponíveis para aplicações de semicondutores.
Placa de Vidro de Quartzo Transparente de Alta Resistência a Altas Temperaturas 1200℃ com 99,99% de Pureza, Folha de Vidro de Sílica Fundida
Placa de quartzo resistente a altas temperaturas com temperatura de trabalho de 1150 ℃, >92% de transmitância de luz e 99,99% de pureza de SiO2. Disponível em espessuras de 0,5 a 100 mm com opções de fabricação personalizadas para aplicações de semicondutores, laboratórios e fornos.
Tubo de rosca de quartzo de alta precisão e alto desempenho de vedação, garrafa de vidro de quartzo para laboratório
Tubo de rosca de quartzo de alta precisão com conteúdo de 99,99% de SiO₂, temperatura de trabalho de até 1100 ℃, ponto de fusão de 1732 ℃. Resistente a altas temperaturas, resistente à corrosão, ideal para pesquisas em laboratório, semicondutores e aplicações de ensino universitário.
