| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado/círculo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicativo | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |
| Modelo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| Inscrição | Semicondutor, ótico |
| espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de processamento | Perfuração, cortando |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SiO2> 99,99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Transimittance claro | 92% |
| Dureza | Morse 6.5 |