Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
---|---|
Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
---|---|
Material | SIO2>99.999% |
Densidade | 2,2 (g/cm3) |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | morse 6,5 |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
---|---|
Sio2 | 99,99% |
Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratório, biologia, médica |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
---|---|
Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Modelo | Placa clara de quartzo |
---|---|
Inscrição | Semicondutor, ótico |
espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de processamento | Dobra, soldando, perfurando, corte, lustrando |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Type | Clear Quartz Plate |
---|---|
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Type | Clear Quartz Plate |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Type | Clear Quartz Plate |
---|---|
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |