| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Nome do produto | Janela óptica de vidro de quartzo |
|---|---|
| Materiais | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Transimittance claro | 92% |
| Dureza | morse 6,5 |
| Nome do produto | Janela óptica de vidro de quartzo |
|---|---|
| Materiais | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Transimittance claro | 92% |
| Dureza | morse 6,5 |
| Nome do produto | haste de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Transimittance claro | 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nome do produto | Flange de tubo de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Tipo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| Inscrição | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Perfuração, corte, lustrando |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo congelado |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |