Tipo | Placa clara de quartzo |
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aplicação | luz UV, óptica |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Dobra, solda, perfurando, corte |
Tipo | portador de wafer de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Nome do produto | Vidro de quartzo |
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Material | Sio2 |
Pureza | >99,99% SiO2 |
Suavizar temperatura | 1730℃ |
Temparature de trabalho | 1200℃ |