Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Arco |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Material | SiO2 |
---|---|
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Transmitância UV | 80% |
Material | SiO2 |
---|---|
densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Transmitância UV | 80% |