Nome do produto | placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2,2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Material | SiO2 |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Transmitância UV | 80% |
Material | SIO2>99.99% |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Material | SiO2 |
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Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1850℃ |
forma | Quadrado/redondo/alguma forma |
Espessura | 1mm-50mm |
Material | SiO2 |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Transmitância UV | 80% |
Material | SiO2 |
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Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
Material | SiO2 |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Transmitância UV | 80% |
Material | SiO2 |
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Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Transmitância UV | 80% |
SiO2 | 99,99% |
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Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratório, biologia, médica |
Cor | Transparente |