| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Força de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Nome do produto | Garrafa de reagente do laboratório |
|---|---|
| Material | SIO2>99.9% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica, 150 vezes do que de aço inoxidável |
| Ponto do derretimento | 1750℃ |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratório, biologia, médica |
| Cor | Transparente |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabalho | 1110℃ |
| Nome do produto | Garrafa de reagente do laboratório |
|---|---|
| Material | SIO2>99.9% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica, 150 vezes do que de aço inoxidável |
| Tipo | Placa de quartzo limpa |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Grossura | 0,5-100mm |
| Forma | Redondo |
| Serviço de processamento | Punchando, corte |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome do produto | placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99,99% |
| densidade | 2,2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6.5 |
| Temperatura de trabalho | 1150 ℃ |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Densidade | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitância claro | >92% |
| Dureza | morse 6,5 |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |