Tipo | Placa de Quartzo Transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, óptico |
Espessura | 0,5-100 mm |
forma | quadrado |
Processando o serviço | Flexão, soldagem, perfuração, corte, polimento |
Material | SIO2>99,99% |
---|---|
Densidade | 2,2g/cm3 |
Dureza | Morse 6.5 |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabalho | 1110℃ |
Nome do produto | Produtos vidreiros de laboratório da ciência |
---|---|
Material | silicone fundido |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica |
Dureza | morse 6,5 |
Nome do produto | haste de vidro de quartzo |
---|---|
Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
dureza | morse 6,5 |
Material | SIO2>99.99% |
---|---|
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
dureza | morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Barra de quartzo prensada a quente |
---|---|
Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
dureza | morse 6,5 |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |