High Purity 99.99% Fused Silica Plate with 1732C Melting Point and 1100C Working Temperature for Optical Quartz Window
Detalhes do produto
| Densidade: | 2.2g/cm3 | Composição material: | SiO2> 99,99% |
|---|---|---|---|
| Transmitância de Luz: | > 92% | Grossura: | 0,5-100mm |
| Dureza: | Morse 6.5 | Temperatura de trabalho: | 1150 ℃ |
| Destacar |
1732C Melting Point Fused Silica Plate,1100C Working Temperature Quartz Glass Plate,99.99% Purity Optical Quartz Window |
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Descrição do produto
Destaques do produto
Placas de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1150°C. Tamanhos personalizados (1-800 mm de diâmetro, 0,2-100 mm de espessura) com opções de perfuração/corte. Padrões JGS, resistentes à corrosão e duráveis em altas temperaturas para aplicações de semicondutores, laser e ópticas.
O tanque entalhado microplaqueta da amostra da folha do vidro de quartzo do portador da folha de teste do tanque da amostra de XRD pode ser personalizado
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Product description: 1.SiO2> 99.99% ,tubing fused quartz 2.Operating Temperature: 1250℃ 3.Excellent visual and chemical performance . 4.Without surface coating andinfectant . 5.Health care and environmental protection. 6.Any specification can be made. 7.Quartz glass is acidic materials, except hydro ...
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