Placas de vidro de quartzo resistentes ao calor com temperatura de trabalho de 1150 ℃, >92% de transmitância de luz e 99,99% de pureza de SiO2. Disponível em espessura de 0,5-100 mm com padrões JGS1/JGS2/JGS3. Opções de fabricação personalizadas para fornos solares, laboratórios e aplicações industriais.
Placas de sílica fundida de alta pureza com 99,99% SiO2, >92% de transmitância de luz, ponto de fusão de 1732°C e temperatura de trabalho de 1150°C. Tamanhos personalizados (1-800 mm de diâmetro, 0,2-100 mm de espessura) com opções de perfuração/corte. Padrões JGS, resistentes à corrosão e duráveis em altas temperaturas para aplicações de semicondutores, laser e ópticas.
Tubos de quartzo personalizados com 99,99% de pureza de SiO2, suportam choque térmico de 1200°C. Apresenta ponto de amolecimento de 1730°C, excelente resistência a ácidos e certificações CE/RoHS/SGS. Disponível em tamanhos personalizados para aplicações químicas.
Fornecimento de fábrica de placas de vidro de quartzo resistentes ao calor de alta pureza (SiO₂> 99,99%) com ponto de amolecimento de 1683 ° C, temperatura de trabalho 1100-1200 ° C, dureza Morse 6,5 e 92% + transmitância de luz. Formas personalizadas, espessura de 0,3-100 mm, superfícies polidas e baixo MOQ disponível.
Tubo de vidro de quartzo 99,99% SiO₂ resistente a altas temperaturas personalizado para fornos, equipamentos semicondutores e reatores de laboratório. Apresenta temperatura de trabalho de 1100 ℃, resistência à corrosão e processamento personalizado. ISO9001, CE, RoHS certificado com amostras grátis disponíveis.
Placa de quartzo transparente personalizada de fábrica de alta pureza 99,99% com transmitância de luz> 92%, padrões JGS1 / JGS2, temperatura de trabalho de até 1150 ℃, disponível em espessura de 0,5-100 mm. Opções de fabricação personalizada para aplicações ópticas e de semicondutores com forte resistência à corrosão e isolamento elétrico.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Tubo de quartzo de sílica fundida de grande diâmetro com pureza de 99,99% SiO₂, temperatura de trabalho de até 1100 ℃. Tamanhos personalizados de 10 a 10.000 mm de diâmetro externo para semicondutores, fornos de alta temperatura e aplicações de laboratório. Amostras grátis disponíveis.
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