| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado/círculo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de Quartzo Transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Perfuração, Corte |
| Nome do produto | Placa de quartzo fundido |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Nome do produto | vidro de vista de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome | Disco do vidro de quartzo |
|---|---|
| Transmitância claro | >92% |
| densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nome | isolador de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Transmitância claro | >92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Transimittance claro | 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Tipo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Dobra, solda, perfurando, corte |
| Tipo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Dobra, soldando, perfurando, corte, lustrando |
