| material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabalho | 1110℃ |
| Tipo | portador de wafer de quartzo |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Misturados |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Arco |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado/círculo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature de trabalho | 1200℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratório, biologia, médica |
| Cor | Transparente |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabalho | 1110℃ |
| Nome do produto | Garrafa de reagente do laboratório |
|---|---|
| Material | SIO2>99.9% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica, 150 vezes do que de aço inoxidável |
| Ponto do derretimento | 1750℃ |
| Nome do produto | Garrafa de reagente do laboratório |
|---|---|
| Material | SIO2>99.9% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica, 150 vezes do que de aço inoxidável |
| Nome | Flange de quartzo do silicone fundido |
|---|---|
| Característica | Dimensão exata |
| Aplicação | Calefator |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
