Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância de luz | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância de luz | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do Produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2,2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.999% |
Densidade | 2,2 (g/cm3) |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | morse 6,5 |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | Sio2 |
Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1850℃ |
Forma | Quadrado/redondo/alguma forma |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância de luz | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.999% |
Densidade | 2,2 (g/cm3) |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | morse 6,5 |
Tipo | portador de wafer de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |