| Tipo | portador de wafer de quartzo |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Nome | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Característica | ESTABILIDADE TÉRMICA RESISTENTE À CORROSÃO DE /GOOD |
| Material | SIO2>99.99% |
| OD | 3-300mm |
| Transmitância claro | >92% |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |