Tipo | Placa clara de quartzo |
---|---|
Inscrição | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Perfuração, corte, lustrando |
Material | SIO2>99.99% |
---|---|
OD | 3-300mm |
Transmitância claro | >92% |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
dureza | Mose 6,5 |
SiO2 | 99,99% |
---|---|
Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratório, biologia, médica |
Cor | Transparente |