Material | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Transmitância claro | >92% |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Dureza | Mose 6,5 |
Nome do produto | placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabalho | 1150℃ |
Nome do produto | haste de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2 |
Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1850℃ |
Forma | Quadrado/redondo/alguma forma |
Material | 99,99% |
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Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Dureza | morse 6,5 |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.999% |
Densidade | 2,2 (g/cm3) |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | morse 6,5 |
Nome do produto | haste de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
dureza | morse 6,5 |
SiO2 | 99,99% |
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Temparature de trabalho | 1200℃ |
Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratório, biologia, médica |
Cor | Transparente |
Tipo | Placa clara de quartzo |
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Inscrição | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Perfuração, corte, lustrando |
Material | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Transmitância claro | >92% |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
dureza | Mose 6,5 |