Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Arco |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado/círculo |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Material | Vidro de quartzo puro |
---|---|
Capacidade | 100-850ml |
Uso | casa/hotéis/restaurante |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Cor | Transparente |
Material | SIO2>99.99% |
---|---|
OD | 3-300mm |
Transmitância claro | >92% |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Material | SIO2>99.99% |
---|---|
OD | 3-300mm |
Transmitância claro | >92% |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Dureza | Mose 6,5 |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
---|---|
Material | SIO2>99.999% |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Nome | isolador de vidro de quartzo |
---|---|
Material | SIO2>99.999% |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |