| Tipo | Placa de quartzo congelado |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | Vidro de quartzo puro |
| Capacidade | 100-850ml |
| Uso | casa/hotéis/restaurante |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmitância claro | >92% |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Dureza | Mose 6,5 |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmitância claro | >92% |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Dureza | Mose 6,5 |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| OD | 3-300mm |
| Transmitância claro | >92% |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome do Produto | Frasco de reagente com tampa de rosca |
|---|---|
| Material | SIO2>99,9% |
| Densidade | 2,2g/cm3 |
| Temperatura de trabalho | 1100 ℃ |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica, 150 vezes do que o aço inoxidável |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Tipo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| Aplicação | luz UV, óptica |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Dobra, solda, perfurando, corte |
