Nome do produto | Fazer à máquina do vidro da precisão |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1200℃ |
Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Fazer à máquina do vidro da precisão |
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Material | SiO2 |
dureza | morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
Nome do produto | Vara de vidro de quartzo |
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Material | Sio2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
dureza | morse 6,5 |
Nome | PLACA DE QUARTZO DE XRD |
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Modelo | Placa clara de quartzo |
Inscrição | Produto químico |
espessura | 0.5-100mm |
Forma | Forma circular |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |