Tipo | portador de wafer de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Tubo de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Semicircular |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Tubo de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | circular |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Tubo de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Semicircular |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Tubo de quartzo claro |
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Aplicativo | Semicondutor, óptico |
Grossura | 0,5-100mm |
Forma | Circular |
Serviço de processamento | Flexão, soldagem, soco, polimento |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Mixed |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Mixed |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Tipo | Placa de quartzo limpa |
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Aplicativo | Semicondutor, óptico |
Grossura | 0,5-100mm |
Forma | Misturado |
Serviço de processamento | Flexão, soldagem, soco, polimento |
Tipo | Placa clara de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Dobra, solda, perfurando, corte |
Tipo | Placa clara de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Dobra, soldando, perfurando, corte, lustrando |