Tipo | Placa clara de quartzo |
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aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Dobra, soldando, perfurando, corte, lustrando |
Modelo | Placa de Quartzo Transparente |
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Inscrição | Semicondutor, óptico |
Espessura | 0,5-100 mm |
Forma | Quadrado |
serviço de processamento | Perfuração, Corte |
Tipo | Placa de Quartzo Transparente |
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Aplicação | Semicondutor, óptico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Processando o serviço | Perfuração, Corte |
Tipo | Placa de Quartzo Transparente |
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Aplicação | Semicondutor, óptico |
Espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de Processamento | Perfuração, cortando |
Type | Clear Quartz Tube |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Tipo | Tubo de flange de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Type | Clear Quartz Capillarity Tube |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Tipo | portador de wafer de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | portador de wafer de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | portador de wafer de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |