Material | SIO2>99.999% |
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Densidade | 2,2 (g/cm3) |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Modelo | Placa clara de quartzo |
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Inscrição | Semicondutor, ótico |
espessura | 0.5-100mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de processamento | Dobra, soldando, perfurando, corte, lustrando |
Nome do produto | Vidro de quartzo perfurado |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Nome de quartzo | placa de vidro de quartzo |
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Material | 99,99% |
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.999% |
Densidade | 2,2 (g/cm3) |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | morse 6,5 |
Nome | Placa de vidro de quartzo de alta temperatura |
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Modelo | Placa de Quartzo Transparente |
Inscrição | Semicondutor, óptico |
Grossura | 0,5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |