| Material | vidro fundido de quartzo |
|---|---|
| Forma | tubo de vidro de quartzo com flanges |
| Cor | Transparente |
| Desnidade | 2.2 |
| temperatura | >1450 |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| OD | 3-300mm |
| Transmitância claro | >92% |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome do produto | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| OD | 3-300mm |
| Transmitância claro | >92% |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome | PLACA DE QUARTZO DE XRD |
|---|---|
| Modelo | Placa clara de quartzo |
| Inscrição | Produto químico |
| espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Forma circular |
| Nome | Placa de vidro de alta temperatura de quartzo |
|---|---|
| Tipo | Placa clara de quartzo |
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Name | High Temperature Quartz Glass Plate |
|---|---|
| Type | Clear Quartz Plate |
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Misturados |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |