| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Arco |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Nome do produto | Tubo de quartzo |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| dureza | Morse 6,6 |
| Ponto do derretimento | 1730℃ |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado/círculo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Nome | Tubo de ensaio de quartzo |
|---|---|
| Característica | Resistência de corrosão |
| Material | SIO2>99.99% |
| OD | 3-300mm |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Tipo | Placa de Quartzo Transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, óptico |
| Espessura | 0,5-100 mm |
| forma | quadrado |
| Processando o serviço | Flexão, soldagem, perfuração, corte, polimento |
| Nome do produto | Garrafa de reagente com tampão de parafuso |
|---|---|
| Material | SIO2>99.9% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica, 150 vezes do que de aço inoxidável |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |