Material | SIO2>99,99% |
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Densidade | 2,2g/cm3 |
Dureza | Morse 6.5 |
Temperatura de trabalho | 1150 ℃ |
Ponto de Fusão | 1750-1850℃ |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |