| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Material | silicone fundido |
|---|---|
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Densidade | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitância claro | >92% |
| Dureza | morse 6,5 |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Nome do produto | Produtos vidreiros de laboratório da ciência |
|---|---|
| Material | silicone fundido |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Nome do produto | haste de vidro de quartzo |
|---|---|
| Materiais | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Transimittance claro | 92% |
| Dureza | morse 6,5 |
| Nome do produto | Quartzo Rod de vidro |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Tamanho | Personalizado |
| Transimittance claro | 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
