Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
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Material | Sio2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
Dureza | morse 6,5 |
Nome do produto | haste de vidro de quartzo |
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Material | SIO2>99.99% |
Tamanho | Personalizado |
Transimittance claro | 92% |
dureza | morse 6,5 |
Tipo | portador de wafer de quartzo |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado/círculo |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo congelado |
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Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Passo |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Nome do produto | Prego de vidro de quartzo |
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Material | SIO2 |
Junção | homem de 14mm/18mm |
Ângulo do tubo | 90° |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Produtos vidreiros de laboratório da ciência |
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Material | silicone fundido |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |
Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica |
Dureza | morse 6,5 |
Nome do produto | Barra quente de quartzo da imprensa |
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Material | SIO2>99.99% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Transimittance claro | 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
nome | Disco do vidro de quartzo |
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Transmitância claro | >92% |
densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Material | SIO2>99.999% |
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Densidade | 2,2 (g/cm3) |
Transmitância claro | >92% |
Dureza | morse 6,5 |
Temperatura de trabalho | 1100℃ |