| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Densidade | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitância claro | >92% |
| Dureza | morse 6,5 |
| Nome do produto | placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99,99% |
| densidade | 2,2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6.5 |
| Temperatura de trabalho | 1150 ℃ |
| Nome do produto | placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99,99% |
| Density | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6.5 |
| Temperatura de trabalho | 1150 ℃ |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Perfurar, cortar |
| Tipo | portador de wafer de quartzo |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Tipo | Tubo de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Semicircular |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Nome do produto | Vidro de quartzo perfurado |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Qualidade de superfície | 20/40 ou 40/60 |
