| Nome do Produto | Barra de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99,99% |
| Densidade | 2,2g/cm3 |
| Transitância luminosa | 92% |
| Dureza | Morse 6.5 |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Nome do produto | Placa de vidro de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | morse 6,5 |
| Temparature de trabalho | 1150℃ |
| Nome do produto | Urna de quartzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Nome | Tubo de vidro de quartzo |
|---|---|
| Aplicação | Fontes , Semicondutores |
| Material | SIO2>99,99% |
| Característica | Bom Isolamento Elétrico |
| transmissão de luz | >92% |
| Tipo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| Inscrição | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Perfuração, corte, lustrando |
| Nome do produto | Placa de vidro lisa |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitância claro | 92% |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| material | silicone fundido |
|---|---|
| Temperatura de trabalho | 1250℃ |
| Tolerância ácida | 30 vezes do que a cerâmica |
| Dureza | Morse 6,5 |
| aplicação | Análise laboratorial |
| Nome do produto | Tubo de ensaio de quartzo |
|---|---|
| Material | Quartzo fundido |
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabalho | 1100℃ |
| Ponto do derretimento | 1750℃ |
| Tipo | Placa de quartzo transparente |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrado |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
