| Tipo | Placa clara de quartzo |
|---|---|
| Inscrição | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrado |
| Processando o serviço | Perfuração, corte, lustrando |
| Tipo | Placa de quartzo congelado |
|---|---|
| Aplicação | Semicondutor, ótico |
| Espessura | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
| Material | Vidro de quartzo puro |
|---|---|
| Capacidade | 100-850ml |
| Uso | casa/hotéis/restaurante |
| Temparature de trabalho | 1100℃ |
| Cor | Transparente |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidade | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Ponto do derretimento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabalho | 1110℃ |