Material | 99,99% |
---|---|
Transmitância claro | 92% |
Densidade | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Tipo | portador de wafer de quartzo |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Misturados |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Arco |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Tipo | Placa de quartzo transparente |
---|---|
Aplicação | Semicondutor, ótico |
Espessura | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrado/círculo |
Serviço de tratamento | Fabricação em que o teor de ácido acetilsalicílico não exceda 50% do teor de ácido acético |
Nome do produto | Tubo de quartzo |
---|---|
Material | Sio2 |
dureza | Morse 6,6 |
Ponto do derretimento | 1730℃ |
Temparature de trabalho | 1100℃ |
Nome do produto | Vidro de quartzo |
---|---|
Material | Sio2 |
Pureza | >99,99% SiO2 |
Suavizar temperatura | 1730℃ |
Temparature de trabalho | 1200℃ |
Nome | Tubo de vidro de Quarzt |
---|---|
Palavra-chave | tubo de quartzo |
Material | SIO2>99.99% |
OD | 3-300mm |
Transmitância claro | >92% |
Nome de quartzo | Tubo de vidro de quartzo |
---|---|
Material | SIO2>99.99% |
OD | 3-300mm |
Transmitância claro | >92% |
Temparature de trabalho | 1100℃ |